【简 介】

纳米尺度表面形貌是决定高端装备界面力学、摩擦、密封、光电及服役可靠性的核心结构特征，其高精度、非接触、定量表征对界面机理研究与装备性能提升至关重要。尤其是在尖端制造领域中，如何对表面加工质量进行精确表征一直是具有争议的话题，特别是在超精密加工中当加工精度到了纳米量级，传统的测量仪器多因分辨率无法企及而止步。同为光学3D显微测量方法，白光干涉和共聚焦各有所长、又相互补充。白光干涉技术优点在于其超光滑表面精准测量的能力，而共聚焦则是擅于复杂结构、大角度斜坡形貌表面的精确表征。两种检测技术覆盖了从纳米到毫米级的特征尺寸测量，满足了从基础研究到工业在线检测的不同需求，共同构成了微观表面形貌与三维计量学的基石，极大地推动了对材料表面性能、加工质量与失效机理的深入理解，是高端制造和前沿科学研究的关键支撑技术。

本次讲座将着重介绍白光干涉扫描和共聚焦扫描技术的工作原理、关键技术指标与测量优势，并将分享目前在实际应用中的一些案例，展示其在三维形貌重构、粗糙度定量、缺陷检测与原位动态观测等等方面的应用。

【讲座内容】

      — 高端装备界面科学与技术全国重点实验室测试平台介绍

      — 基础知识和原理介绍

      — 研究进展及应用案例

【主 持 人】 王  榕   高端装备界面科学与技术全国重点实验室 工程师

【主 讲 人】 刘见桥 深圳市中图仪器股份有限公司 产品总监

毕业于华中科技大学光电学院光学工程专业，现任职于深圳市中图仪器股份有限公司，负责白光干涉仪和共聚焦显微镜的产品迭代与优化/技术应用/行业应用等工作。在微纳尺度表面形貌光学表征方法在高端制造领域的应用深耕10余年，对显微测量领域中的白光干涉仪和共聚焦显微镜应用以及微纳测量技术有着深刻的认识，具有丰富的应用与操作经验。

【讲座时间】 2026年3月12 日（周四）上午09:00-11:00

【讲座地点】 线下：清华大学李兆基科技大楼A404报告厅

                       线上：腾讯会议 130 164 835

【报名方式】 邮箱：rongwang@mail.tsinghua.edu.cn

二维码：

【主办单位】 高端装备界面科学与技术全国重点实验室

【协办单位】 深圳市中图仪器股份有限公司